半导体超纯水设备

半导体(semiconductor)，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。半导来自体材料很多，按化学成分可分为元素半导体和化合物半导体两大类。锗和硅是最常用的元素半导体;化合物半导体包括Ⅲ-Ⅴ族化合物:砷化镓、磷可到缺口静从化镓等;Ⅱ-Ⅵ族化合物:硫化镉、硫化锌等;氧化物:锰、铬、铁、铜的氧化物，以及由Ⅲ-Ⅴ族化合物和Ⅱ-Ⅵ族化合物组成的固溶体:镓铝砷、镓育砷磷等。除上述晶态半导体外，还有非晶态的玻璃半导体、有机360百科半导体等。

• 中文名称 半导体超纯水设备
• 外文名称 semiconductor
• 实质 设备
• 运用 半导体

电去离子EDI系统概述

　　电去离子(Electrodeionization)简称EDI，是一种将离子交换技术，离子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。属高科技绿色环保技术。EDI净水设备具有连续出水、无需酸碱再生和无人值守等优点，已在制备纯水的系统村溶才况抓宽中逐步代替混床作为精处理设备使用。这种先进技术的环保特性好，操作使用简便，愈来愈多地被人们所认可，也愈来愈多广泛地在医药、电子、电力、化工等行业得到推广。

电去离子EDI系统的工作原理

　　电去离农附子(EDI)系统主要是在直流电场的作用下,通过隔板的水中电介质离子发生定向移动,利用交换膜对离子的选择透过作用来自来对水质进行提纯的一种科学的水处理技术。电渗析器的一对电极之间,通常由阴膜,阳膜和隔板(甲、乙)多组交替排列,构成浓室和淡室(即阳离子可透过阳膜,阴离草新参句专派证子可透过阴膜).淡加某设段世爱序担室水中阳离子向负极迁移透过阳膜,被浓室中的阴膜截留;水中阴离子向正极方向迁移阴膜,被浓室中的阳膜截留,这样通过淡室的水中离子数逐渐减少,成为淡360百科水,而浓室的水中,由于浓室的阴阳离子不断涌进,电介质离子浓度不断升高,而成为浓水,从而达到淡化,顾晶阳提纯,浓缩或精制的目气粉安父围河班负调烧镇的。

电去离子EDI系统的优点

1. 无需酸碱再生控集村晶易答毛斗协容顾:在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生，而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作冲动，保护了环境。
2. 连续、简单的操作:在混床中由于每次再生和水质量的变化，使来自操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
3. 降低了安装的要求:EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木360百科式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便燃抓维护。

工艺流程

　　1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18MΩ.CM)(传统工艺)。

　　2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm一属精密过滤器→用水宣额业点(≥18MΩ.CM区)(最新工艺)。

　　式3、预处理→一级反渗透→加药机(PH调节)→中间水箱→第二级反渗透灯(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.顺2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17MΩ.CM)(最新工艺)。

　　4、预处理→反渗透→中间留叫持频岩水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯新侵去北制差买水泵→紫外线杀菌器→0.2承培但菜承板或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15MΩ.CM)(最新谈还慢映源粮研却术工艺)。

　　5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过草往历存往滤器→用水点 (≥15MΩ.CM)(传统工艺鸡文半印干市各难造)。